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　　簡介：

　　隨著電子產(chan)品(pin)的(de)應(ying)用領域在(zai)不斷的(de)擴(kuo)大(da)(da)，半導體涉(she)及的(de)行業也越來越廣(guang)泛(fan)，半導體工(gong)業不僅對于純(chun)水(shui)(shui)的(de)要求高，在(zai)產(chan)品(pin)制作的(de)過程(cheng)中將會產(chan)生大(da)(da)量的(de)工(gong)業污水(shui)(shui)，因(yin)生產(chan)產(chan)品(pin)的(de)原(yuan)材料不同，所以(yi)產(chan)生的(de)廢(fei)水(shui)(shui)的(de)廢(fei)水(shui)(shui)性質也不同。

　　廢水處理難點：

　　1、半導體廢(fei)水處理污染物(wu)種類多，成分復雜;

　　2、含有(you)多種(zhong)重金屬、氟、硅以及有(you)機廢水等;

　　3、含有高濃度的極細懸浮顆粒;

　　4、工業的(de)污水排放量(liang)大;

　　5、廢水濃度(du)低，水質(zhi)變化大;

　　6、廢水中含金(jin)屬離子(zi)種類較(jiao)多，需分開收集進行處(chu)理;
 

　　工藝流程：

　　含氟廢水：半導體(ti)含氰清洗水的處理(li)一般(ban)采(cai)用兩級(ji)(ji)堿性氧(yang)化法處理(li)工藝，半導體(ti)廢水處理(li)設(she)備(bei)設(she)有(you)機(ji)械攪拌系統、PH控制系統、ORP控制系統以及加藥(酸、堿、氧(yang)化劑)系統，將廢水pH值(zhi)調節(jie)在10.5-11之間，ORP值(zhi)300- -4oo mv，進行一級(ji)(ji)氧(yang)化破氰，反應時間為15 ~ 20min。

　　當進行(xing)二級氧化(hua)破氰(qing)時，廢水的pH值調節在(zai)pH在(zai)10.5-11之間(jian)，ORP值300- -4oo mv,反(fan)應時間(jian)15 ~ 20min,將CN-氧化(hua)就為CN0-。

　　有機廢水一(yi)般采用經濟(ji)高效(xiao)(xiao)的(de)生化法(fa)，如單獨的(de)好氧法(fa)或與缺氧法(fa)、厭氧法(fa)組合工藝(yi)，對(dui)于廢水中COD、氨氮、總氮等常(chang)規污染物(wu)去除效(xiao)(xiao)果非常(chang)可觀(guan)。.

　　金屬離子廢水則需針對不同廢水不同種(zhong)類進(jin)行選擇，常(chang)用的有化學(xue)沉淀法、吸附法、離子交換法等。
 

　　宏森環保半(ban)導體廢水處理(li)設備優勢：

　　1、占地面(mian)積小(xiao)，整體造型(xing)美(mei)觀;

　　2、操作方便，運營成本低;

　　3、免費提供1對(dui)1定制方案;

　　4、自主研(yan)發技術(shu)，30年行業沉(chen)淀，確(que)保污水穩定(ding)達(da)標(biao)排放(fang);

　　5、自主研發系統，投資性(xing)價比(bi)高;

　　6、清污分(fen)流(liu)，分(fen)類分(fen)級處理;